Ãë¾÷Çпø 1À§ :: ÇØÄ¿½º Ãë¾÷¾ÆÄ«µ¥¹Ì

Àüü¸Þ´º

¹ÝµµÃ¼ Á÷¹« ·¹º§Å×½ºÆ®
  • Á¦Çѽð£

³²Àº ¹®Á¦ ¼ö

  • Q.NAND Flash memoryÀÇ
    ±¸µ¿¿ø¸®¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.SemiconductorÀÇ Band gap¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.MOSFETÀÇ ±¸Á¶¿Í
    Band diagram¿¡´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.MOSFETÀÇ Oxide µÎ²²¿¡ µû¸¥ ¹®Á¦Á¡°ú
    À̸¦ ÇØ°áÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ¹æ¾È¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.Photolithography °øÁ¤ ÀÛ¾÷ ½ÃÀÇ
    Áß¿äÇÑ Ç׸ñµéÀ» ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.ȸ·Î ¹Ì¼¼ ÇѰ踦 ±Øº¹Çϱâ À§ÇÑ
    Photolithography ±â¼ú¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.3D NAND¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ
  • Q.CVD¿Í PVDÀÇ Á¾·ù¿Í ¿ø¸®,
    Àå´ÜÁ¡¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.PlasmaÀÇ Á¤ÀÇ¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.HKMG(High-k Metal Gate)¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.8´ë °øÁ¤¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.Dry etching°ú wet etching¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.CMP °øÁ¤¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.DepositionÀÇ Á¾·ù¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
  • Q.Si Energy band¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇϽÿÀ.
°á°ú ¹× Á¤´äÈ®ÀÎ
  • Çб³
  • Àü°ø
  • ÇÐÁ¡
    /
  • Áö¿ø Èñ¸Á Á÷¹«
°á°ú ¹× Á¤´äÈ®ÀÎ
´äº¯ °¡´É ¼ö 0/15
´ÔÀº ÇöÀç ¿ÕÃʺ¸ ·¹º§ÀÔ´Ï´Ù.

¹ÝµµÃ¼ Á÷¹« Àü¹Ý¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ°¡ ´Ù¼Ò ºÎÁ·ÇÕ´Ï´Ù.
¹ÝµµÃ¼¿¡ ´ëÇÐ ±âº»Áö½ÄºÎÅÍ Á¢±ÙÇÏ¿©
ÀÌÇØµµ¸¦ ³ôÀÌ´Â °ÍÀÌ Áß¿äÇÕ´Ï´Ù.
±âÃÊÀûÀÎ ¹ÝµµÃ¼ ¿ë¾î³ª ÀÌ·Ð, ¼ÒÀÚ µ¿ÀÛ¿ø¸® µîÀ» ÇнÀÇϰí
±âº»¿ø¸®¸¦ ¹ÙÅÁÀ¸·Î ½ÉÈ­¿ø¸®¿¡ ´ëÇÑ Ã¼°ÔÀûÀÎ ÇнÀÀÌ ÇÊ¿äÇÕ´Ï´Ù.

´ÔÀ» À§ÇÑ ¸ÂÃã ÆÐŰÁö
´ÔÀ» À§ÇÑ ¸ÂÃã°­ÁÂ
·¹º§Å×½ºÆ® ¼ºÀû ºÐ¼® È®ÀÎ
¼­ºñ½º ÀÌ¿ë ¹× ¼ºÀûºÐ¼®À» À§ÇØ °³ÀÎÁ¤º¸ ¼öÁý/ÀÌ¿ë µ¿Àǰ¡ ÇÊ¿äÇÕ´Ï´Ù.
  • ¸ðµÎ µ¿ÀÇÇÕ´Ï´Ù.
  • °³ÀÎÁ¤º¸ À̿뿡 µ¿ÀÇÇÕ´Ï´Ù. (Çʼö)
  • ¸¶ÄÉÆÃ(±¤°í¼º) Á¤º¸ ¾È³»¿¡ ¼ö½Å µ¿ÀÇÇÕ´Ï´Ù. (¼±ÅÃ)

[°³ÀÎÁ¤º¸ ¼öÁý¡¤ÀÌ¿ë µ¿ÀÇ ]

1. °³ÀÎÁ¤º¸ ¼öÁý¡¤ÀÌ¿ë ¸ñÀû
1) ·¹º§Å×½ºÆ® À̺¥Æ® Âü¿©¿¡ µû¸¥ ÇýÅà ¹ß¼Û, ¾È³» ¹× °ü·Ã ¹®ÀÇ »çÇ× ÀÀ´ë
2) À̺¥Æ® Âü¿© ³»¿ª °ü¸®¸¦ ÅëÇÑ ÇýÅà Áߺ¹ ¼ö·É ¹æÁö µî
3) ±¤°í¼º Á¤º¸ ¼ö½Å¿¡ º°µµ µ¿ÀÇÇÑ ÀÚ¿¡ ÇÑÇÏ¿© ÇØÄ¿½º¾îÇпøÀ» ºñ·ÔÇÑ ÇØÄ¿½º ±³À°±×·ìÀÇ »õ·Î¿î ¼­ºñ½º ½Å»óǰÀ̳ª À̺¥Æ®, ÃֽŠÁ¤º¸ ¾È³» µî ½ÅûÀÚÀÇ ÃëÇâ¿¡ ¸Â´Â ÃÖÀûÀÇ ¼­ºñ½º¸¦ Á¦°øÇϱâ À§ÇÔ.
(ÇØÄ¿½º±³À°±×·ì: ÇØÄ¿½ºÀΰ­, ÇØÄ¿½ºÇÁ·¦, ÇØÄ¿½ºÅå, ÇØÄ¿½ºÁß±¹¾î, ÇØÄ¿½ºÀϺ»¾î, ÇØÄ¿½ºÀâ, ÇØÄ¿½º±ÝÀ¶, ÇØÄ¿½ºÀÓ¿ë, ÇØÄ¿½º°ø¹«¿ø, ÇØÄ¿½º°æÂû, ÇØÄ¿½º¼Ò¹æ, ÇØÄ¿½º°øÀÎÁß°³»ç, ÇØÄ¿½ºÁÖÅðü¸®»ç, À§´õ½º±³À°, À§´õ½ºµ¶Çлç, ÇØÄ¿½ºÆíÀÔ µî)

2. °³ÀÎÁ¤º¸ ¼öÁý¡¤ÀÌ¿ë Ç׸ñ: À̸§, ÈÞ´ëÆù¹øÈ£, Çб³, Àü°ø, ÇÐÁ¡, Èñ¸ÁÁ÷¹«

3. °³ÀÎÁ¤º¸ º¸À¯/ÀÌ¿ë ±â°£: ¼öÁýÇÑ °³ÀÎÁ¤º¸´Â ¼öÁý ½Ã·ÎºÎÅÍ 1³â°£ ÀÌ¿ëÇϸç,³»¿ª°ü¸®¸¦ À§ÇØ Ãß°¡ 1³âÀ» º¸°üÇÑ ÈÄ ÆÄ±âÇÕ´Ï´Ù. (ÃÑ 2³â º¸À¯) ´Ù¸¸, º¸À¯ ¹× ÀÌ¿ë±â°£ µ¿¾È °³ÀÎÁ¤º¸ À̿뿡 öȸÇϽô °æ¿ì¿¡´Â ±× Áï½Ã ÆÄ±âÇÕ´Ï´Ù.

4. ½ÅûÀÚ´Â °³ÀÎÁ¤º¸ ¼öÁý¡¤ÀÌ¿ëÀ» °ÅºÎÇÒ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù. ´Ü, °ÅºÎÀÇ °æ¿ì¿¡´Â ·¹º§Å×½ºÆ® À̺¥Æ® Âü¿©°¡ Á¦Çѵ˴ϴÙ.